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那诺中国有限公司专注于为大中华区域(包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾)的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备(包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等)。那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪,包含飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、质子转移反应(PTR)质谱仪、电子轰击电离(EI)质谱仪等。
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全自动磁控溅射系统是一种用于薄膜沉积技术的设备,广泛应用于半导体、光电、光学薄膜、传感器等领域。该系统利用高能离子束轰击靶材,通过物质溅射的方式,在基材表面沉积薄膜。全自动磁控溅射系统的基本原理:1.气体离子化:在高真空环境中,惰性气体(如氩气)被导入腔体,施加高频电压形成等离子体,使气体部分离子化。2.离子加速:离子被电场加速并朝向靶材运动。3.靶材溅射:高速运动的离子与靶材发生碰撞,使靶材表面原子获得足够的能量,从而逸出表面,形成溅射物质。4.薄膜沉积:溅射出的原子在腔体...
2025-01-19磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)技术,广泛应用于薄膜材料的制备。其基本原理是利用高能粒子轰击靶材,导致靶材原子或分子逸出,并在基材表面沉积形成薄膜。该过程通常在真空环境中进行,以确保沉积过程中的纯净和无污染。全自动磁控溅射系统的部分组成:1.真空腔体:作为整个溅射过程的核心部分,真空腔体配备有高效的抽真空系统,确保低压环境。2.靶材和基材架:靶材通常采用高纯度的金属或合金,根据不同的沉积需求选择;基材架则负责固定待涂覆的基材,确保在溅射过程中的稳定性。3.磁场系统:...
2024-12-26飞行时间二次离子质谱法(TOF-SIMS)是一种高度灵敏的表面分析技术,可揭示样品顶部几个原子层的质谱数据。Kore很荣幸成为InnoviaFilms的TOF-SIMS供应商,InnoviaFilms是一家材料科学公司,为包括标签、包装以及钱币在内的各种产品生产基础膜。InnoviaFilms与Kore接洽,要求研究其高度差异化的双向拉伸聚丙烯(BOPP)薄膜的不同表面处理。Kore设计的SurfaceSeer仪器成为Kore后续TOF-SIMS仪器的基础,并为Innovia...
2024-12-03便携式飞行时间质谱仪(PortableTime-of-FlightMassSpectrometer,TOF-MS)是一种高灵敏度、高分辨率的分析工具,广泛应用于环境监测、食品安全、药物检测、军事安全等领域。与传统的实验室质谱仪相比,具有体积小、重量轻、操作简便等特点,使其能够在现场快速进行分析和检测。便携式飞行时间质谱仪的工作原理:1.样品离子化:样品先通过离子化源被转化为离子。常见的离子化方法包括电喷雾离子化(ESI)、基质辅助激光解吸/电离(MALDI)和化学离子化(CI...
2024-11-25全自动磁控溅射系统是现代薄膜材料制备技术中一种重要的设备,广泛应用于半导体、光电、超导材料和光学薄膜等领域。此系统以其高效率、高均匀性和良好的膜层特性而受到重视。通过精确的控制技术,自动化溅射过程使得膜层的性能更为稳定并可重复,大幅提高了生产效率。全自动磁控溅射系统的结构组成:1.真空腔体:提供低压环境,通常采用不锈钢或铝合金制作,具有很好的密封性与耐腐蚀性。2.靶材:用于溅射的材料,常见的有金属、合金或化合物。靶材的选择直接影响薄膜的成分和性能。3.磁控装置:通过调整磁场的...
2024-10-28全自动ICP刻蚀系统是一种先进的半导体制造设备,广泛应用于微电子、光电器件及MEMS(微电机械系统)等领域。ICP(感应耦合等离子体)刻蚀技术以其高效率、高选择性和良好的均匀性而受到青睐。ICP刻蚀是一种利用感应耦合等离子体产生高密度等离子体,并通过对其进行控制来实现对材料的去除过程。在该技术中,氟化气体等化学试剂通过喷嘴进入反应室,与等离子体中的电子和离子发生碰撞,形成活性物种,在材料表面发生化学反应,进而实现刻蚀。全自动ICP刻蚀系统的部分组成:1.反应室:用于进行刻蚀反...
2024-09-27推荐产品recommend