加热后的气体被导向真空压力表，真空压力表就会产生温升。热真空试验箱如果温升超过了真空压力表规定的使用温度范围，就可能使真空压力表产生示值误差。一般的热真空试验箱均设有温度均匀度参数：自然对流式的干燥箱为工作温度上限乘3%，强制对流式的干燥箱为工作温度上限乘2.5%。惟独电热真空干燥箱不设温度均匀度参数，这是为什么？真空干燥箱内依靠气体分子运动使工作室温度达到均匀的可能性几乎已经没有了。因此，从概念上我们就不能再把通常电热（鼓风）干燥箱所规定的温度均匀度定义用到真空干燥箱上来。...

在所有的清洗方式中，进口晶圆清洗机是效率zui高、效果的一种，之所以超声波清洗能够达到如此的效果，是与它*的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道，在生产和生活当中，需要清洁的东西很多，进口晶圆清洗机需要清洗的种类和环节也很多，如：物件的清除污染物，疏通细小孔洞，常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求，即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求，超声波清洗对物件还能达到杀灭细菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等，因此，进口晶圆清洗机被日益广泛应...

在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3um以上。RIE-PE刻蚀机是因大规模集成电路生产的需要而开发的精细加工技术，它具有各向异性特点，在zui大限度上保证了纵向刻蚀，还可以控制横向刻蚀。介绍的RIE-PE刻蚀机就是属于干法ICP刻蚀系统。RIE-PE刻蚀机为了适应工艺发展需求，各...

微波等离子清洗机也叫等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。微波等离子清洗机对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态...

继NANO-MASTER*技术的带淋浴头气流分布的平面ICP离子源应用于NANO-MASTER的刻蚀系统，ICPECVD沉积系统，PA-MOCVD生长系统之后，该ICP离子源顺利应用于ALD系统。由于该型技术设计的ICP源为平面设计的远程等离子源，可以在更低电源下达到更高的离子密度，具有电子温度低、离子密度高、腔体空间占比低等优势，确保了该ALD系统具有薄膜无损伤、生长速度快、脉冲周期短（沉积效率可以达到两倍以上）的先进性能。此外，可以实现低温（100度以内）的薄膜生长。

微波等离子清洗机技术在橡塑行业的应用已非常成熟，其相关产值逐年增加，国外市场比国内市场产值高，但国内可发展空间大，应用前景诱人。经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费品的质量要求也越来越高，微波等离子清洗机技术随之逐步进入生活消费品生产行业中；另外，科技的不断发展，各种技术问题的不断提出，新材料的不断涌现，越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性，并投入大量资金进行技术攻关，微波等离子清洗机技术在其中发挥了非常大的作用。我们深信等离子技术应用范围会越来越广；技术的成熟...

微波等离子清洗机优势：一、清洗对象经微波等离子清洗机之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率。二、微波等离子清洗机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在高度关注环保的情况下越发显出它的重要性。四、微波等离子清洗机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体...

RIE-PE刻蚀机其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。RIE-PE刻蚀机是在湿法腐蚀技术基础上发展起来的，属于纯化学性腐蚀。这种方法腐蚀均匀性好、损伤小，缺点是各向刻蚀同性，对于1μm以下的细线条线宽损失明显。所以，在等离子刻蚀的基础上改进反应结构和接电方式，出现了反应离子刻蚀。该方法加快了纵向的腐蚀速度，具有各向异性的腐蚀...